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ENST Paris – MIEL – L1 19-1 photolithogravure SiO 2 Si.

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Présentation au sujet: "ENST Paris – MIEL – L1 19-1 photolithogravure SiO 2 Si."— Transcription de la présentation:

1 ENST Paris – MIEL – L photolithogravure SiO 2 Si

2 ENST Paris – MIEL – L photolithogravure dépôt de la résine photosensible SiO 2 Si résine ps

3 ENST Paris – MIEL – L photolithogravure masquage msk quartz=SiO 2 msk Cr SiO 2 Si résine ps

4 ENST Paris – MIEL – L photolithogravure insolation msk quartz=SiO 2 msk Cr SiO 2 Si résine ps UV X 0,25µm 0,08µm

5 ENST Paris – MIEL – L photolithogravure msk quartz=SiO 2 msk Cr SiO 2 Si résine ps UV X 0,25µm 0,08µm

6 ENST Paris – MIEL – L photolithogravure déplacement de la tranche msk quartz=SiO 2 msk Cr SiO 2 Si résine ps UV X 0,25µm 0,08µm

7 ENST Paris – MIEL – L photolithogravure photorépétition msk quartz=SiO 2 msk Cr SiO 2 Si résine ps UV X 0,25µm 0,08µm

8 ENST Paris – MIEL – L photolithogravure développement de la résine SiO 2 Si résine ps

9 ENST Paris – MIEL – L photolithogravure gravure de loxyde SiO 2 Si résine ps

10 ENST Paris – MIEL – L photolithogravure nettoyage de la résine résiduelle SiO 2 Si


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