La présentation est en train de télécharger. S'il vous plaît, attendez

La présentation est en train de télécharger. S'il vous plaît, attendez

La fabrication des circuits imprimés VI-2 Photo-traçage1 La fabrication des masques photographiques Photomask manufacturing VI-2.

Présentations similaires


Présentation au sujet: "La fabrication des circuits imprimés VI-2 Photo-traçage1 La fabrication des masques photographiques Photomask manufacturing VI-2."— Transcription de la présentation:

1 La fabrication des circuits imprimés VI-2 Photo-traçage1 La fabrication des masques photographiques Photomask manufacturing VI-2

2 La fabrication des circuits imprimés VI-2 Photo-traçage2 La fabrication de masques photo Photomask manufacturing Phototraceur Vectoriel A balayage Films Constitution Développement Stabilité Environnement Photoplotter Vectorial Raster scan Films Constitution Processing Stability Environment

3 La fabrication des circuits imprimés VI-2 Photo-traçage3 Phototraceur vectoriel Vectorial photoplotter X Y Roue d ouvertures Aperture wheel Obturateur Shutter Lampe Lamp Objectif Lens Table mobile Moving Table Film

4 La fabrication des circuits imprimés VI-2 Photo-traçage4 Tracé vectoriel Vectorial drawing P1 P2 P3 Flash d une pastille Flashed pad Tracé d une piste Drawing of a trace

5 La fabrication des circuits imprimés VI-2 Photo-traçage5 Phototraceur à balayage laser Laser raster scan photoplotter Tambour tournant Rotating drum Miroir pivotant Swivel miror Film Lase r laser Commande électronique Electronic control

6 La fabrication des circuits imprimés VI-2 Photo-traçage6 Tracé par balayage Raster scan drawing Résolution traceur Plotter resolution 2000 dpi = 12,7µm 4000 dpi = 6,35µm 8000 dpi = 3,17µm Image mode point Bitmap picture Pixel laser Laser pixel

7 La fabrication des circuits imprimés VI-2 Photo-traçage7 Film photographique Photographic film Emulsion photosensible Photosensitive emulsion Support polyester 0,1-0,18 mm mm Polyester base Couche anti-reflet Anti-reflection layer 2 Ag Br 2 Ag + Br 2 Lumière

8 La fabrication des circuits imprimés VI-2 Photo-traçage8 Développement Processing Développement Development Fixage Fixing Lavage Washing Séchage Drying L image apparaît The picture appear Révélateur Developer Fixateur Fixer Le filmdevient transparent The film become transparent Nettoyage du film Cleaning of the film Eau water Air

9 La fabrication des circuits imprimés VI-2 Photo-traçage9 Stabilité dimensionnelle Dimensional stability En fonction de la température Versus temperature D (µm) = 22 x L (m) x T (°C) Exemple L = 600 mm, T = 5°c D = 22 x 0,6 x 5 = 66 µm

10 La fabrication des circuits imprimés VI-2 Photo-traçage10 Stabilité dimensionnelle Dimensional stability En fonction de l humidité relative Versus relative humidity Épaisseur du film 0,1mm D (µm) = 11 x L (m) x Hr (°C) Exemple L = 600 mm, Hr = 20% D = 11 x 0,6 x 20 = 132 µm

11 La fabrication des circuits imprimés VI-2 Photo-traçage11 Stabilité dimensionnelle Dimensional stability En fonction de l humidité relative Versus relative humidity Épaisseur du film 0,18 mm D (µm) = 9 x L (m) x Hr (°C) Exemple L = 600 mm, Hr = 20% D = 9 x 0,6 x 20 = 108 µm

12 La fabrication des circuits imprimés VI-2 Photo-traçage12 Stabilité dimensionnelle Dimensional stability Réversibilité Reversibility Hygrométrie % Hr Tempérarure °C °C30 °C 75% Hr 30% Hr Zone de déformation réversible

13 La fabrication des circuits imprimés VI-2 Photo-traçage13 Stabilité dimensionnelle Dimensional stability AcclimatationAcclimatization Délai (approximatif) nécessaire à l adaptation des dimensions d un film à un changement soudain de l humidité relative Epaisseur du film (mm) Adaptation dimensionnelle 0,100 0,180 40% 60%80%100% 5 mn15 mn60 mn300 mn 20 mn60 mn180 mn750 mn

14 La fabrication des circuits imprimés VI-2 Photo-traçage14 Environnement Environment Régulation de Température Ex. 20 0,5 °C Humidité relative Ex % Hr Salle blanche. Ex. Classe 100 Norme US ( Nombre de particules > 0,5 µm par pied cube ) Temperature régulation Ex. 20 0,5 °C Relative humidity Ex % Hr Clean room. Ex. Class 100 US Standard ( Number of particles > 0.5 µm per square foot )


Télécharger ppt "La fabrication des circuits imprimés VI-2 Photo-traçage1 La fabrication des masques photographiques Photomask manufacturing VI-2."

Présentations similaires


Annonces Google