Semi-conducteur à l’équilibre

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Transcription de la présentation:

Semi-conducteur à l’équilibre

Semi-conducteurs à l’équilibre Dopage des semi-conducteurs Semi-conducteur intrinsèque Le dopage n et p Calcul de la densité de porteurs extrinsèques Semi-conducteur compensé

Semi-conducteurs Structure en bandes d’énergie: Bande de valence: c’est la dernière bande remplie à T=0K Bande de conduction: c’est la bande immédiatement au dessus et vide à T=0K

Notion de trous (+e !) La notion de bandes permet d’introduire le porteur de charge positif : un trou Aux températures différentes de 0 K, électrons « montent » dans BC, laissent des « trous » dans la BV

Conduction bipolaire La présence d’électrons et trous entraîne une conduction bipolaire dans les SC On peut privilégier une conduction par le dopage du semi-conducteur, ie l’introduction d’impuretés E externe

Électrons dans une structure Diamant (ex: Si)

Électrons dans une structure Diamant (ex: Si)

Densité de porteurs dans les bandes Eg Fonction de Fermi: Densité d’états: Densité de porteurs:

Densité de porteurs dans les bandes Approximation de Boltzmann: Si le niveau de Fermi est à plus de « 3kT » du minimum de la bande de conduction ou du maximum de la bande de valence, on peut simplifier la fonction de distribution:

Densité de porteurs dans les bandes Dans ces conditions (Boltzmann), la densité de porteurs libres s’écrit: Dans la bande de conduction (électrons): Dans la bande de valence (trous): avec avec

Loi d’action de masse np=ni2 Dans un semi-conducteur intrinsèque, la densité de trous est égale à la densité d’électrons: En faisant n=p, on obtient le niveau de Fermi intrinsèque:

Semi-conducteur intrinsèque Variation exponentielle de la densité de porteurs Si ni>1015cm-3, le matériau inadapté pour des dispositifs électroniques. Remarque: Le produit np est indépendant du niveau de Fermi Expression valable même si semi-conducteur dopé SC à grands « gap » Type SiC, GaN, Diamant Introduction du dopage

Dopage: introduction de niveau énergétique dans le gap Dopage type n Dopage type p

Dopage d’un SC: type n

Dopage d’un SC: type p

Variation de la conduction d’un semi-conducteur dopé en fonction de la température Tous les « donneurs sont ionisés 3 régimes: Extrinsèque Épuisement des donneurs Intrinsèque

Calcul de la position du niveau énergétique Ed ou Ea Le problème « ressemble » au modèle de l’atome d’hydrogène Introduction du Rydberg « modifié » : Exemple de dopants et leurs énergies

Densité de porteurs extrinsèques: nb d’électrons différents du nb de trous Mais loi d’action de masse toujours valable, avec n.p=cte (sauf si dopage trop élevé). Pour déterminer ces concentrations (n et p), on écrit la neutralité électrique du système.

Densité de porteurs extrinsèques: Semi-conducteurs type n (ND>NA): Dans la pratique (ND, NA, et ND – NA >> )ni si bien que:

Niveau de Fermi dans un SC dopé Si le SC n’est pas dégénéré, l’approximation de Boltzmann reste valable: Type n et p respectivement Soit un niveau de Fermi type n et type p donné par:

Différence Ef - Efi Au lieu d’exprimer Ef en fonction de Nc et Nv, on peut écrire: type n type p

Différence Ef - Efi On peut alors exprimer les densité d’électrons et de trous à l’équilibre par: Équations de Boltzmann avec: type n type p

Semi-conducteurs dégénérés: approximation de Joyce –Dixon Dans ce cas , l’approximation de Boltzmann n’est plus valable pour le calcul: soit de n et p soit de la position du niveau de Fermi: on utilise alors l’approximation de Joyce-Dixon:

Peuplement des niveaux d’impuretés : gel des porteurs En fonction de la température, le niveau d’impureté est plus ou moins peuplé. Supposons un SC « avec » ND donneurs et NA accepteurs (ND>NA) À T=0K BV =>pleine EA => NA électrons ED => ND-NA électrons BC => vide

Peuplement des niveaux d’impuretés : gel des porteurs À température non nulle: les électrons sont redistribués mais leur nombre reste constant !!!. L’équation de neutralité électrique permet de connaître leur répartition: n, p : électrons (trous) libres dans BC (BV) nd (pa) : électrons (trous) liés aux donneurs (accepteurs)

Fonction de distribution des atomes d’impuretés – Principe d’exclusion de Pauli Comparaison de l’image « chimique » et de la description en « bande d’énergie » de l’atome donneur ou accepteur: « liaison chimique » Atome donneur  atome Si + noyau chargé positivement. « Bande d’énergie » Cristal parfait + puits de potentiel attractif sur un site du réseau Niveau énergétique Ed dans le gap sous Ec doublement dégénéré (spin up et down) Mécanique quantique (électrons indépendants) Interaction Coulombienne + écrantage du noyau: Ed diminue Le deuxième électron « s’échappe » : occupation du niveau par un seul électron

Probabilité d’occupation du niveau d’impureté Proba d’occupation et nb d’électrons sur Ed: Proba de non occupation et nb de trous sur Ea:

Niveau « donneur »:le facteur 1/2 Atome de Phosphore (col V): États élecroniques 3s² 3p3 : 2e s et 2e p participent aux liaisons  1e sur le niveau ED (le 5° !) il (le 5° !) possède un spin particulier up ou down Une fois l’e parti (f(E)) la « case » vide peut capturer un spin up ou down => le mécanisme (la proba.) de capture est augmenté / à l’émission.

Semi-conducteur fortement dopé Si dopage trop important, les impuretés se « voient » ( rayon de Bohr 100 angstroms) le niveau d’énergie associé s’élargit Un effet important est la diminution du « Gap » du SC et donc ni augmente!!: pour le Silicium

Semi-conducteurs hors équilibre

Plan: Recombinaison et génération Courants dans les SC Équation de densité de courants Équations de continuité Longueur de Debye Équation de Poisson Temps de relaxation diélectrique

Phénomènes de Génération - Recombinaison Loi d’action de masse: À l’équilibre thermodynamique: Hors équilibre: apparition de phénomènes de Génération - Recombinaison création ou recombinaison de porteurs : Unité [g]=[r]=s-1cm-3 Taux net de recombinaison: avec externe interne

Différents chemins Génération depuis état lié Génération bande à bande

Recombinaison: 2 « chemins » possibles (1) Recombinaison directe électron-trou Processus fonction du nombre d’électron et de trous Exemple: type n +excitation lumineuse en faible injection ( ie ) En régime de faible injection le nombre de porteurs majoritaires n’est pas affecté.

Recombinaison: 2 « chemins » possibles (2) Recombinaison par centres de recombinaison: En général ces centres se trouvent en milieu de bande interdite Le taux de recombinaison s’écrit: Où est caractéristique du centre recombinant Si les 2 processus s’appliquent: Équation de Shockley-Read

Recombinaison: 2 « chemins » possible (2) Si semi-conducteur peu dopé: on applique SR Si semi-conducteur dopé n: Si région « vide » de porteurs (ex: ZCE) Avec Taux net de génération. Création de porteurs

Excitation lumineuse Type P

Recombinaison radiative ou non

Recombinaisons de surface

Courants dans les SC Courant de conduction: présence de champ électrique Si E=0, vitesse des électron=vitesse thermique (107 cm/s) mais => vitesse moyenne nulle car chocs (« scattering ») avec le réseau + impuretés. Libre parcours moyen (« mean free path »):

Courants dans les SC Courant de conduction: présence de champ électrique Entre deux chocs, les électrons sont accélérés uniformément suivant Accélération: Vitesse: Mobilité: Si : 1500 cm2/Vs GaAs: 8500 cm2/Vs In0.53Ga0.47As:11000 cm2/Vs

Courants dans les SC La densité de courant de conduction s’écrit: Pour les électrons: Pour les trous: Pour l’ensemble:

Courants dans les SC Importance de la mobilité sur les composants Mobilité la plus élevée possible => vitesse plus grande pour un même E Facteurs limitants: Dopage Défauts (cristallins, structuraux, …) Température Champ électrique de saturation + géométrie

Courants dans les SC Vitesse de saturation des électrons La relation linéaire vitesse – champ valide uniquement pour: Champ électrique pas trop élevé Porteurs en équilibre thermique avec le réseau Sinon: Au-delà d’un champ critique, saturation de la vitesse Apparition d’un autre phénomène: « velocity overshoot » pour des semiconducteurs multivallée. Régime balistique:pour des dispositifs de dimensions inférieures au libre parcours moyen (0.1µm)

Vitesse de saturation Différents comportement en fonction du SC Survitesse (« overshoot »)

Courants dans les SC Courant de diffusion: Origine: gradient de concentration Diffusion depuis la région de forte concentration vers la région de moindre []. 1° loi de Fick: nb d’e- qui diffusent par unité de temps et de volume (flux) nb de h+ qui diffusent par unité de temps et de volume (flux)

Courants dans les SC Courant de diffusion: somme des deux contributions (électrons et trous): Constante ou coefficient de diffusion [ ]=cm2/s.

Courants dans les SC Courant total: somme des deux contributions (si elles existent) de conduction et diffusion: D et µ expriment la faculté des porteurs à se déplacer. Il existe une relation entre eux: relation d’Einstein:

Équations de continuité – longueur de diffusion G et R altèrent la distribution des porteurs donc du courant On obtient alors les équations de continuité pour les électrons et les trous:

Équations de continuité – longueur de diffusion Exemple: cas où le courant est exclusivement du à de la diffusion:

Équations de continuité – longueur de diffusion En régime stationnaire, les dérivées par rapport au temps s’annulent: Solutions: Longueur de diffusion: représente la distance moyenne parcourue avant que l’électron ne se recombine avec un trou (qq microns voire qq mm) Ln ou Lp >> aux dispos VLSI R et G jouent un petit rôle sauf dans qq cas précis (Taur et al)

Équation de Poisson Elle est dérivée de la première équation de Maxwell. Elle relie le potentiel électrique et la densité de charge: Dans les SC, deux types de charges (fixes et mobiles): Charge mobiles (électrons et trous) Charges fixes (dopants ionisés)

Longueur de Debye Si on écrit l’équation de Poisson dans un type n en exprimant n en fonction de : Si Nd(x) => Nd+DNd(x) , alors FFi est modifié de DFFi en remarquant que: V(x)=FFi +cte

Longueur de Debye Signification physique? Solution de l’équation différentielle du 2° degré: La « réponse » des bandes n’est pas abrupte mais « prend » quelques LD ( si Nd=1016 cm-3, LD=0.04µm). Dans cette région, présence d’un champ électrique (neutralité électrique non réalisée) avec

Temps de relaxation diélectrique Comment évolue dans le temps la densité de porteurs majoritaires ? Équation de continuité (R et G négligés): or et d’où Solution: Temps de relaxation diélectrique ( 10-12 s)