R&D Résistif Tests sous tension dans lair Tests dans gaz (Ar+5%isobutane) Tests de cuisson dans lair sur anode Cu.

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Transcription de la présentation:

R&D Résistif Tests sous tension dans lair Tests dans gaz (Ar+5%isobutane) Tests de cuisson dans lair sur anode Cu

Tests sous tension dans lair Préparation anode résistive Anode de Cu passivé de 10cmX10cm sur laquelle est déposé un film résistif denviron 2Mohms/square collé sur 2 couches de Flowbond sous presse à 100°C. surface résistive mise à la masse avec une pâte argent.

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Conclusions Après 1h30 baisse du courant résiduel pour une même tension Baisse du taux de claquage 70V de « gagné » dans lair