Association de composants L’exemple de la ligne de mise en forme (pulse forming network)
Objectif d’un PFN A partir d’une tension continue, réaliser un créneau de tension de même niveau, de durée maîtrisée et d’impédance adaptée PFN
Montages typiques Par l’exemple du condensateur cylindrique (= guide coaxial) on sait qu’une capacité associée en parallèle à une inductance présente : un délai à la charge ou à la décharge complètes quantifiée par T= 2 / = 2 (LC) et une impédance Z = (L/C)
Z ohm L(nH) \ C(nF)0,10, ,04,53,22,21,41,00,70,40,30,20,1 2014,16,34,53,22,01,41,00,60,40,30,1 5022,410,07,15,03,22,21,61,00,70,40, ,614,110,07,14,53,22,21,41,00,5770, ,720,014,110,06,34,53,22,01,40,80, ,731,622,415,810,07,15,03,22,21,30, ,044,731,622,414,110,07,14,53,21,81,0 tau ns/étage L(nH) \ C(nF)0,10, Impédance itérative et retard par étage pour un PFN
PFN à 12 étages C= 300nF L=100nH = (LC) =173 ns T = 12 = 2078 ns Z = (L/C) = 0,577 ohm
PFN 12 sur Z
PFN à 1 étage (!) C= 300nF L=100nH = (LC) T = = 173 ns Z = (L/C) = 0,577 ohm
PFN 1 Sur Z
PFN à 6 étages C= 300nF L=100nH = (LC) =173 ns T = 6 = 1039 ns Z = (L/C) = 0,577 ohm
PFN 6 sur Z
PFN 12 sur Z/10 On note la réflexion quasi totale sur la sortie. Le premier palier est bien décrit.
PFN 12 sur 10 Z
PFN12 sur 100 Z Le comportement est celui d’une décharge RC avec la cap équivalente nC; la contribution des selfs est peu visible. R=57,7 ohm C 12 = 3600 nF RC 12 = 208 µs
Marx simple 2 étages C = 100 nF n=2 C éq = 50 nF R ext = 1 ohm R éclat = 2*0,01 = 0,02 ohm C éq R éclat = 1 ns C éq R ext = 50 ns
Marx simple 2 étages C = 100 nF n=2 C éq = 50 nF R ext = 1 ohm R éclat = 2*0,01 = 0,02 ohm C éq R éclat = 1 ns C éq R ext = 50 ns
Marx simple 4 étages C = 100 nF N = 4 C éq = 25 nF R ext = 1 ohm R éclat = 2*0,01 = 0,02 ohm C éq R éclat = 0,5 ns C éq R ext = 25 ns
Marx simple 4 étages C = 100 nF N = 4 C éq = 25 nF R ext = 1 ohm R éclat = 2*0,01 = 0,02 ohm Temps de montée C éq R éclat = 0,5 ns Temps de descente C éq R ext = 25 ns