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1
photolithogravure SiO2 Si ENST Paris – MIEL – L1
2
photolithogravure dépôt de la résine photosensible
résine ps SiO2 Si ENST Paris – MIEL – L1
3
photolithogravure masquage
msk quartz=SiO2 msk Cr résine ps SiO2 Si ENST Paris – MIEL – L1
4
photolithogravure insolation
msk quartz=SiO2 UV X 0,25µm 0,08µm msk Cr résine ps SiO2 Si ENST Paris – MIEL – L1
5
photolithogravure msk quartz=SiO2 UV X msk Cr résine ps SiO2 Si
0,25µm 0,08µm msk Cr résine ps SiO2 Si ENST Paris – MIEL – L1
6
photolithogravure déplacement de la tranche
msk quartz=SiO2 UV X 0,25µm 0,08µm msk Cr résine ps SiO2 Si ENST Paris – MIEL – L1
7
photolithogravure photorépétition
msk quartz=SiO2 UV X 0,25µm 0,08µm msk Cr résine ps SiO2 Si ENST Paris – MIEL – L1
8
photolithogravure développement de la résine
résine ps SiO2 Si ENST Paris – MIEL – L1
9
photolithogravure gravure de l’oxyde
résine ps SiO2 Si ENST Paris – MIEL – L1
10
photolithogravure nettoyage de la résine résiduelle
SiO2 Si ENST Paris – MIEL – L1
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