photolithogravure SiO2 Si ENST Paris – MIEL – L1
photolithogravure dépôt de la résine photosensible résine ps SiO2 Si ENST Paris – MIEL – L1
photolithogravure masquage msk quartz=SiO2 msk Cr résine ps SiO2 Si ENST Paris – MIEL – L1
photolithogravure insolation msk quartz=SiO2 UV X 0,25µm 0,08µm msk Cr résine ps SiO2 Si ENST Paris – MIEL – L1
photolithogravure msk quartz=SiO2 UV X msk Cr résine ps SiO2 Si 0,25µm 0,08µm msk Cr résine ps SiO2 Si ENST Paris – MIEL – L1
photolithogravure déplacement de la tranche msk quartz=SiO2 UV X 0,25µm 0,08µm msk Cr résine ps SiO2 Si ENST Paris – MIEL – L1
photolithogravure photorépétition msk quartz=SiO2 UV X 0,25µm 0,08µm msk Cr résine ps SiO2 Si ENST Paris – MIEL – L1
photolithogravure développement de la résine résine ps SiO2 Si ENST Paris – MIEL – L1
photolithogravure gravure de l’oxyde résine ps SiO2 Si ENST Paris – MIEL – L1
photolithogravure nettoyage de la résine résiduelle SiO2 Si ENST Paris – MIEL – L1