LE BESOIN MATERIEL A DISPOSITION Dispositif de fabrication de pièces par microstéréolithographie LES CRITERES A RESPECTER.

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1 LE BESOIN MATERIEL A DISPOSITION Dispositif de fabrication de pièces par microstéréolithographie LES CRITERES A RESPECTER

2 Dispositif de fabrication de pièces par microstéréolithographie -Industrie automobile et Aéronautique -Domaine médical, design,.. -Moulage ou architecture Sur une résine photosensible SYSTEME DE MICROSTEREOLITHOGRAPHIE Faire des modèles et des pièces « finies » en résine À qui rend-il service ?Sur quoi agit-il ? Dans quel but existe-t-il ?

3 CritèresNiveauxFlexibilités FP1 : Polymériser, en les empilant successivement, de fines couches de résines monomères liquides, suivant un modèle bidimensionnel prédéfini et variable d’une couche à l’autre pour l’obtention de pièces finies à faibles contraintes internes. FC2 : S’affranchir des parasites ambiants. FC3 : Respect des normes de sécurité en vigueur FC4 : Concevoir un système industrialisable. Mettre en œuvre avec les moyens disponibles au lycée. FC5 : Prévoir un système automatique afin de simplifier les manipulations utilisateur.  Logiciel  Améliorer l’existant  Ajout d’une fonction de tranchage des volumes  Ajout d’une base de données des caractéristiques de polymérisation  Ajout d’une phase de mise au point des réglages des éléments mécaniques du système  F0  F3  F1  F0  Les réalisations devront être faites dans l’établissement  Tenir compte du parc machines.  F3  Respect des normes de sécurité en vigueur  Résine non nocive  Lumière projetée loin des yeux (protection contre les UV)  F2  Support  Stable  Volume maxi d’encombrement 1*1*1 m3  F0  F2  Pièce à fabriquer  Volume < 10*10*10 mm 3  F0  Système de déplacement  Motorisé et piloté par PC  Résolution 0.01mm  F2  F0  Résine  Zone d’amorçage comprise entre 250nm et 380nm  F0  Masque dynamique  Résolution minimale : 1024*768 points  F2  Source  Source UV  F0  Système optique  Objectifs ou lentilles (quartz ou silice fondue) ou miroirs permettant de faire varier le grandissement du système entre 1/3 et 3  F0 Critères à respecter : Dispositif de fabrication de pièces par microstéréolithographie ClasseFlexibilitéNiveau F0NulleImpératif F1FaiblePeu négociable F2MoyenneNégociable F3forteTrès négociable

4 MATERIEL A DISPOSITION Dispositif de fabrication de pièces par microstéréolithographie La structure mécanique est à remplacer par un montage plus rigide. La protection contre les UV est à améliorer. Le système optique de projection du masque est à revoir. Le réglage du grandissement doit être simplifié.