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1 © CEA Tous droits réservés. Toute reproduction totale ou partielle sur quelque support que ce soit ou utilisation du contenu de ce document est interdite sans lautorisation écrite préalable du CEA All rights reserved. Any reproduction in whole or in part on any medium or use of the information contained herein is prohibited without the prior written consent of CEA Presentation name - Speaker name 2008 First-principles study of thin metallic films deposited on cristalline high-k oxide Fabien Fontaine-Vive Philippe Blaise

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5 © CEA Tous droits réservés. Toute reproduction totale ou partielle sur quelque support que ce soit ou utilisation du contenu de ce document est interdite sans lautorisation écrite préalable du CEA All rights reserved. Any reproduction in whole or in part on any medium or use of the information contained herein is prohibited without the prior written consent of CEA Presentation name - Speaker name Epitaxial approach: depositing metal atoms on the oxide surface, thermal annealing T -> 0 K Relaxed interface structures (very small Fmax, 5 eV/A N atoms of metal Monoclinic HfO2, Surface orientation 001 N relaxation, N*1ps = Vo= -Vz.z z Fabien Fontaine-Vive

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